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掩模保护膜/膜是极紫外光刻工艺中的关键部件，是指在掩模上铺一层膜，然后用机器在其上绘制出要压印在晶圆上的电路，以保护掩模免受空气中的灰尘或挥发性气体污染，减少掩模的损坏目前这一领域仍由荷兰的ASML和日本的三井化学主导，而韩国的桑普，S Tech等后来者也是主要供应商之一

韩国媒体ETNews报道称，三星电子自主研发了一种透光率高达88%的EUV膜，有助于实现供应链的多样化和稳定性已经证实可以大规模生产这种具有88%透射率的EUV膜产品

本站了解到，三星电子在去年的2021铸造论坛上宣布了自己对EUV电影的研究当时还公开宣布他们研发出了82%透射比的薄膜技术，并宣布将在2022年拥有88%透射比的量产系统

值得一提的是韩国公司Samp2021年，S Tech成功研制出透光率为90%的半导体EUV薄膜，成为除ASML外又一家成功研制出透光率超过90%的EUV薄膜的公司据说三星对它的要求是把比例提高到94%

业界预测，EUV薄膜需求将比去年增长近一倍，韩国国内EUV薄膜最快将在1—2年内实现商业化此外，TSMC也在加速开发自己的产品，以确保EUV电影的可控性

ASML曝光过程图

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